產(chǎn)品名稱:準(zhǔn)分子激光氣體(Excimer Laser Gases)
其他名稱:氟化ya激光氣體(193nm);氟化ke激光氣體(248nm);氯化氙激光氣體(308nm)
工業(yè)技術(shù)的升級(jí)轉(zhuǎn)型需要平衡日益增長(zhǎng)的性能需求與加工速度及制造成本之間的矛盾。準(zhǔn)分子激光的誕生,準(zhǔn)分子預(yù)混氣價(jià)格,以其高光子能量所稱著,太原準(zhǔn)分子預(yù)混氣,在對(duì)突破材料限制需求越來(lái)越迫切的時(shí)代,準(zhǔn)分子激光器再次站在了尖端工業(yè)激光解決方案的前沿。作為當(dāng)今較有效、較可靠的脈沖紫外激光技術(shù)的代表,準(zhǔn)分子激光器有效地1推進(jìn)了諸如半導(dǎo)體、AMOLED平板顯示、薄膜、硅底板加工、有機(jī)金屬沉淀、高溫超導(dǎo)、刻蝕、材料研究、汽車制造、生物醫(yī)1療、光纖、鉆石打標(biāo)設(shè)備及可替代能源等多種成長(zhǎng)型工業(yè)中的技術(shù)革新。



在準(zhǔn)分子激光器全球的醫(yī)1療、半導(dǎo)體、光纖、平板顯示、材料研究等高1端行業(yè)得到廣泛的應(yīng)用,但作為專業(yè)的準(zhǔn)分子激光氣體的重要廠商,我們同時(shí)也發(fā)現(xiàn)在準(zhǔn)分子激光器的使用上,還存在著一些隱憂,筆者想通過(guò)這篇文章,以引起相關(guān)操作人員的重視。
準(zhǔn)分子激光氣體的主要成分:
氟化ya(ArF) 193 nm :F2、Ar、He、Ne;
氟化ke(KrF) 248 nm :F2、Ar、He、Ne;
氯化氙(XeCl)308 nm :HCl、H2、Xe、Ne
氟化氙(XeF) 351 nm:F2、Xe、He、Ne
顯而易見(jiàn),準(zhǔn)分子激光氣體成份中,Ar、He、Ne、Kr、Xe都是無(wú)色、無(wú)味、無(wú)毒、不可燃的惰性稀有氣體,除非大量釋放到密閉空間會(huì)引起窒息外,對(duì)人體的危害是有限的,排除惰性稀有氣體的危害主要的做法還是通風(fēng),增強(qiáng)室內(nèi)空氣的對(duì)流。



使用準(zhǔn)分子激光技術(shù)所進(jìn)行的工業(yè)加工任務(wù)各不相同,這就促使了準(zhǔn)分子激光氣體在準(zhǔn)分子激光技術(shù)產(chǎn)品具有更廣的輸出特性。本質(zhì)上,所有的應(yīng)用都要求具有高可靠性,激光壽命更長(zhǎng),運(yùn)轉(zhuǎn)成本更低。在三方面主要應(yīng)用的促進(jìn)下,專業(yè)準(zhǔn)分子預(yù)混氣公司,激光器制造商已經(jīng)取得了大量重要的技術(shù)進(jìn)步。新一代的準(zhǔn)分子激光器維護(hù)間隔時(shí)間更長(zhǎng),自動(dòng)調(diào)節(jié)能力更先進(jìn),所需支的擁有成本也更低。



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